選擇Uv電鍍技術有什么優(yōu)勢特點？

發(fā)布時間：2020-04-07

真空uv電鍍具有以下優(yōu)點： （1.沉積材料廣泛：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應氣體和合金靶材更是可以沉積從合金陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設計涂層體系（2.節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達到節(jié)約的目的（3.無環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的危害相當小。

UV真空鍍膜具有許多優(yōu)點：??1，選擇的涂層數(shù)據(jù)大于數(shù)據(jù)熔點約束。因此，除了常見的鋅、鋁、錫和鍍鋅外，幾乎所有的金屬材料都能沉積，金屬氮化物薄膜被鍍上金屬氧化物薄膜和許多品種。金屬碳化物及各種復合薄膜。這為發(fā)展新型帶材提供了很大的自由度。??2，涂層材料利用率高，環(huán)境污染小。真空鍍膜屬于無有害液體或氣體的干式涂料。??3、帶鋼涂布質量好，鍍層光滑均勻，鍍層薄，純度高，附著力好，耐腐蝕。鋼帶在涂敷前可以用電子束預熱，表面被激活。該鍍層純度高，無硬脆合金層。它可以被壓入一個小管而不會從涂層中脫落。??4、技術靈敏靈敏，便于更換品種，根據(jù)商品對帶材的敏感要求，單面和雙面單層和多層，并結合兩種數(shù)據(jù)可達到混合鍍膜。鍍層厚度易于控制，可鍍超薄。

專業(yè)真空UV電鍍材料技術與濕式鍍膜材料技術相比具有明顯優(yōu)勢：1、膜材和基體選材廣泛，膜的厚度可以進行控制以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。2、真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受到污染，因此，可獲得致密性好、純度高、膜層均勻的膜。3、與基體附著強度好，膜層牢固。4、真空UV電鍍生產廠家既不產生肺液也無環(huán)境污染。真空鍍膜技術在電子學等方面主要用來制造電阻和電容元件。用真空鍍膜代替電久工藝，不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗，而且還會消除濕法鍍膜中所產生的污染。

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