lowK電介質(zhì)刻繪355nm紫外激光器

Q304-HD-6426T

重復(fù)頻率40K~200K，355nm功率高達(dá)14W以上@40K

應(yīng)用場合:

FPC鉆盲孔、通孔切割、劃線、FPC結(jié)構(gòu)材料燒蝕、藍(lán)寶石、砷化鎵（G  a  A s）、

氮化鎵（G a N）刻繪切割、激光剝離、晶圓刻繪標(biāo)印、切割、low K 電介質(zhì)刻繪/刻槽、硅片鉆孔、

電子封裝分離、無損薄膜切割劃線、晶片貼膜劃線、太陽能電池劃線、體光柵刻線、SiC碳化硅劃片、

ITO 電極圖案設(shè)計、LDP/LDI、修復(fù) LCD/PDP 與 PDP/ A  M OLED 加工