哈爾濱特博科技有限公司
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認(rèn)證資料 Certification Data
哈爾濱特博科技有限公司
- 聯(lián)系人:李洪巖
- 主營產(chǎn)品:硅片,納米粉粉末,金屬粉末
- 所在地:黑龍江省#哈爾濱市#道里區(qū)河鼓街3號
- 供應(yīng)產(chǎn)品:23
推薦產(chǎn)品
產(chǎn)品詳情
Product details一、硅外延的定義 硅外延工藝實(shí)際上是一種薄層的單晶生長技術(shù),它是在一定的條件下,在硅單晶的襯底片上,沿單晶的結(jié)晶方向生長一層具有一定導(dǎo)電類型,電阻率、厚度、晶格結(jié)構(gòu)與體單晶一致的新單晶層。 二、硅外延生長工藝的優(yōu)點(diǎn) 1、 生長溫度比它本身的熔點(diǎn)要低 2、 可以獲得純度高、缺陷少的單晶薄層 3、 由于摻雜工藝靈活,可以獲得多種結(jié)構(gòu)的單晶或多層外延便于器件參數(shù)結(jié)構(gòu)的調(diào)整 三、硅外延工藝的分類 1、 按結(jié)構(gòu)分類 同質(zhì)外延——即外延層在結(jié)構(gòu)與性質(zhì)上與襯底材料相同,例如N/N+,P/P+ 異質(zhì)外延——即外延層在結(jié)構(gòu)與性質(zhì)上與襯底材料不同,例:SOI(絕緣襯底上外延) 2、 按外延層的厚度和電阻率分類 厚度和電阻率均可按客戶要求控制 3、 按外延生長方法分類 直接法——不經(jīng)過中間化學(xué)反應(yīng),硅原子直接從源轉(zhuǎn)移到襯底片上形成外延層,例:真空濺射法,分子束外延(物理法)液相外延等等 間接法——通過還原或分解硅化合物得到所需要的硅原子,然后在襯底上淀積形成外延層,我們的硅外延就屬于間接生長工藝
聯(lián)系方式
Contact Us- 聯(lián)系人姓名:李洪巖
- 聯(lián)系人職位:經(jīng)理
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